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旋轉涂覆儀本型號勻膠機采用全鋁合金腔體，外觀美觀堅固；腔體上蓋則采用360°可視的有機玻璃設計，便于客戶使用過...
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感應爐感應爐CY-IVΦ300-15KW-SS是一款頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應加熱/熔化系統。這種...
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1700℃管式爐1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件，加熱溫度可高達1700℃，爐管管徑為50mm，采用高純...
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全自動勻膠機旋涂儀旋涂儀是一種實驗室設備，主要用于制備薄膜材料，其應用范圍包括制備太陽能電池，制備金屬、半導體、氧化物...
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桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶...磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設...
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸發鍍膜...熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需...
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分體式高真空雙靶磁控濺射鍍...雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備...
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桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜...單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室S...
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1800度1Kg真空感應熔...1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一。事實證明：宇航、導彈、火箭、原子能設備和電子...
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磁控濺射鍍膜儀
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四靶磁控濺射鍍膜儀帶...四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
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多功能粉體包覆磁控鍍...該設備主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備（磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜）及熱處理等，?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
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四探針薄膜厚度測試儀四探針測試儀用于半導體、薄膜、導電涂層等材料的電學性能測試。四探針薄膜厚度測試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響，從而獲得更準確的測量結果
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旋轉粉末磁控濺射鍍膜...旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
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熱蒸發鍍膜儀
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桌面型三源蒸發鍍膜儀熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出
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高真空三源熱蒸發鍍膜...三源高真空蒸發鍍膜儀應用領域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等
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桌面型有機源蒸發鍍膜...熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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桌面型不銹鋼腔體熱蒸...熱蒸發鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發、氣態粒子的輸運以及在基底上的沉積成膜。在蒸發過程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結合能，從而轉變為氣態分子并從蒸發源表面逸出 。這些氣態粒子在輸運過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長成固相薄膜
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高溫熔煉爐
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2000℃?1Kg?...1Kg真空感應熔煉爐是真空冶金領域中應用*廣的設備之一
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澆筑坩堝升降式感應加...澆筑坩堝升降式感應加熱爐是一種利用電磁感應加熱的工業爐，主要用于金屬熔煉和鑄造。其核心特點是坩堝可升降，便于金屬熔煉后的澆筑操作
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非自耗型高真空電弧爐超高溫大容量非自耗型高真空電弧爐是我公司根據科研單位實驗要求精心研發設計的一款主要用于：熔煉難熔金屬及合金，可進行冶煉、提純、脫氧、除雜等。特別適合高校及科研院所進行新材料的真空冶煉或小批量制備
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2000℃15kw真...真空感應熔煉爐功能**、熔煉快速、使用方便、節能環保，非常適合實驗室進行小劑量的金屬樣品研究
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等離子鍍膜儀
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換位自轉等離子鍍膜儀本型號等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗，本設備配備換位自轉式樣品臺，用戶可以在觸控屏上實現一鍵換位，樣品臺可在兩個靶位自由切換，本設備體積小巧造型美觀功能強大，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉加熱樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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三靶等離子濺射鍍膜儀...本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。本型號儀器還配有旋轉樣品臺，能夠有效的提升鍍膜的均勻性。（本設備配有旋轉樣品臺，可以提升鍍膜的均勻性）該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統，全部觸摸屏操作，便于學習使用。設備體積小巧造型美觀，是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
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可編程勻膠機
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全自動加熱旋涂儀勻膠...可將液態或膠體材料涂覆于硅片、晶體、石英、陶瓷等基材形成薄膜，主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制備、聚合物薄膜的溶膠-凝膠法制備等場景
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四噴頭超聲波勻膠機旋...四噴頭超聲波勻膠機是一種面向未來的gaoduan微納加工設備。它解決了傳統勻膠技術在三維、異質集成和昂貴材料應用中的根本性瓶頸，是推動先進半導體、MEMS和下一代顯示技術發展的關鍵工藝裝備之一。
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全自動勻膠機旋涂儀全自動勻膠機旋涂儀是一種基于離心力原理的精密涂覆設備，通過程序化控制基片旋轉速度、加速度和時間，實現液體材料（如光刻膠、PDMS膠等）在基片表面的均勻分布，形成高質量薄膜或涂層
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光刻膠烤膠機光刻膠烤膠機在半導體及相關領域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉移的**性和工藝穩定性
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涂布機
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桌面平板式涂布機桌面平板式涂布機廣泛用于各種高溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜;能夠適應未來高溫條件下成膜的科學技術的發展
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卷繞型狹縫涂布機全自動卷繞涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度，從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的
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1000mm真空加熱...涂布機是一種廣泛應用于制造業中的機器設備，主要用于薄膜、紙張、布料等材料的表面涂布工藝生產
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間歇式鋰電池涂布機間歇式鋰電池涂布機本著方便研究者使用，同時滿足涂布精度和一致性無異于生產的要求設計，烘干效果優異，是鋰離子電池、超級電容、鎳電池以及其他二次電池研發的理想之選
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旋轉勻膠機的原理概述
旋轉勻膠機的原理概述旋轉勻膠機是一種常用于膠水生產和混合的設備。它的工...[詳情]
- 旋轉勻膠機的原理概述 2026-02-24
- 真空氣氛爐的定義 2026-01-28
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